Fraunhofer ENAS auf der MEMS

Das Fraunhofer-Institut ENAS zeigte auf der in Chiba, Japan, einen Demonstrator eines Monitoring-Systems für Galvaniklösungen.

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Optisches Sensorsystem zur Qualitätsüberwachung von Galvanikprozessen.

Um Galvaniklösungen während des Abscheideprozesses hinsichtlich ihrer Qualität und Zusammensetzung zu überwachen, sind bisher aufwändige Methoden, wie High-Performance Liquid Chromatography, nötig. Das Fraunhofer ENAS entwickelte nun gemeinsam mit der Firma Shinko ein optisches Sensorsystem, mit Hilfe dessen essentielle Bestandteile in Galvaniklösungen online quantifiziert werden können.

Wird eine Abweichung von den vorgegebenen Parametern festgestellt, kann die Zusammensetzung direkt reguliert werden. Das Sensorsystem arbeitet mit kurzen Messzeiten im Millisekunden-Bereich und bietet, aufgrund der Verwendung innovativer Spektralsensorik, Kostenvorteile gegenüber alternativen Lösungen. Kompakte Abmessungen, Drahtloskommunikation und optionaler Batteriebetrieb ermöglichen zudem eine effiziente Integration in verschiedene Anlagen.

Die Projektpartner präsentierten den Sensorsystemdemonstrator erstmalig einem Fachpublikum. Dabei fokussieren sie nicht nur auf die Anwendung zur Qualitätskontrolle in Galvanikprozessen. Das System kann für die Anwendung in weiterer Prozessmesstechnik oder Analysegeräten angepasst werden. Überall dort, wo eine Qualitätskontrolle von Flüssigkeiten durch eine Überwachung bestimmter Schwellenwerte möglich ist, kann das System adaptiert werden. Dazu zählen unter anderem Prozess- und Qualitätskontrollen in der Lebensmitteltechnik, Umweltanalytik oder in der Halbleiterindustrie.

Das Fraunhofer ENAS zeigte auf der Messe weitere Entwicklungsergebnisse wie Sensoren, Komponenten und Technologien für medizintechnische und optische Systeme. Darüber hinaus unterhält das Institut eine enge Kooperation mit dem Tanaka Lab der Tohoku Universität in Senai.

Kontakt:

www.enas.fraunhofer.de